English

東北大学 工学部・工学研究科 技術部

合同計測分析班

Home >> 機器分析サテライト1(マテリアル・開発系)

機器分析サテライト1 管理装置

SEARMS室
XPS EPMA AES
GD-OES XRF
電顕室
TEM1, TEM2, TEM3 FE-SEM1, FE-SEM2, FE-SEM3 複合ビーム加工観察装置
イオンミリング FIB試料仕上げ加工装置
NMR室
NMR(600MHz300MHz

SEARMS室

XPS(X線光電子分光分析装置)

XPSの画像
機種 ThermoFisher Scientific, Theta Probe
励起X線源 単色化Al Kα
X線径 φ200μm(最小:φ15μm)
分光器 半球型アナライザー(SCA)
角度分解測定 最大96分割(試料傾斜は不必要)
検出深さ 数nm以下(極表面領域)
試料サイズ 70mm×70mm×25mm(最大)
対象元素 Li~
付帯設備 角度分解測定、中和銃
用途 試料にX線を照射した際に発生する光電子を検出・分光し、材料表面における各元素の定性分析や表面における化学組成を測定する。
担当者 赤尾、大比良
注意点 利用を希望される方は、事前に担当者に連絡のうえ来室してご相談ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
つきましては、マテリアル・開発系所属以外の方は、初回来室時に配布する「マテリアル・開発系 使用申請書」の提出が必要となります。

EPMA(電子プローブマイクロアナライザ)

EPMAの画像
機種 JEOL, JXA-8530F
電子銃 ショットキータイプ電界放出型(FE)電子銃
分光器数 5基(分光結晶数:10)
分解能 μmオーダー
試料ホルダーサイズ φ25mm×19mmh
対象元素 B~
付帯装置 EDS(B~)
用途 試料に電子線を照射した際に発生する各元素の固有の特性X線を検出して、元素のマッピングや材料組成の定量分析を行う。
担当者 赤尾、大比良
注意点 利用を希望される方は、事前に担当者に連絡のうえ来室してご相談ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
つきましては、マテリアル・開発系所属以外の方は、初回来室時に配布する「マテリアル・開発系 使用申請書」の提出が必要となります。

AES(オージェ電子分光分析装置)

オージェ電子分光分析装置の画像 オージェ電子分光分析装置の画像2
機種 ULVAC-PHI, PHI 710
電子銃 電界放射型電子銃
分光器 電子銃同軸円筒鏡型分光器(CMA)
検出深さ 数nm以下
試料サイズ 35mm×35mm×12mmh
(最大、2インチホルダー使用時)
対象元素 Li~
付帯装置 低温破断機構
トランスファーベッセル機構
高分解能AESスペクトル測定機能
用途 試料に電子線を照射した際に発生するオージェ電子を検出して、元素のマッピングを測定する。また、スパッタエッチングを併用して材料中における元素の深さ方向分布や組成について分析する。
担当者 大比良、赤尾
注意点 利用を希望される方は、事前に担当者に連絡のうえ来室してご相談ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
つきましては、マテリアル・開発系所属以外の方は、初回来室時に配布する「マテリアル・開発系 使用申請書」の提出が必要となります。

GD-OES(高周波パルスグロー放電分光分析装置)

GD-OESの画像
機種 HORIBA JOBIN YVON, GD-Profiler 2
ランプ形式 Marcus型
アノード径 φ4mm(標準)
分光器 ポリクロメータ(45)、モノクロメータ(1)
深さ方向分解能 nmオーダー
試料サイズ >φ10mm
対象元素 H~
付帯装置 スモールサンプル測定装置
用途 高周波パルスグロー放電により試料をスパッタエッチングし、試料から放出されたスパッタ粒子をグロー放電中で励起発光させ、これを分光することによって、深さ方向での元素の定性・定量分析を行う。
担当者 大比良、赤尾
注意点 利用を希望される方は、事前に担当者に連絡のうえ来室してご相談ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
つきましては、マテリアル・開発系所属以外の方は、初回来室時に配布する「マテリアル・開発系 使用申請書」の提出が必要となります。

XRF(蛍光X線分析装置)

XRFの画像
機種 HORIBA, XGT-5000
X線径 φ10μm、φ100μm(切換式)
最大測定エリア 100mm×100mm
エネルギーレンジ 0~40keV
元素マッピング範囲 512μm×512μm~100mm×100mm
対象元素 Na~
付帯装置 マッピング用稼働ステージ
透過X線像観察機構
用途 φ10μmもしくはφ100μmのX線導管により絞り込んだX線を材料に照射しながらスキャンし、透過X線像や蛍光X線測定を行い、試料の元素分析、元素マッピングならびに構造分析を行う。
担当者 大比良、赤尾
注意点 利用を希望される方は、事前に担当者に連絡のうえ来室してご相談ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
つきましては、マテリアル・開発系所属以外の方は、初回来室時に配布する「マテリアル・開発系 使用申請書」の提出が必要となります。

電顕室

TEM(透過型電子顕微鏡)

TEM1の画像
機種 JEOL, JEM-ARM200F
加速電圧 200, 120kV
分解能 (粒子像) 0.08nm (STEM), 0.19nm (TEM)
電子銃 熱陰極電界放射型
試料傾斜角 ±25°
付属装置 エネルギー分散型X線分光器 (EDX)
電子エネルギー損失分光器 (EELS)
STEM ADF/BF検出器
ボトムCCDカメラ
用途 微小領域の形態観察、構造解析、組成分析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

TEM(透過型電子顕微鏡)

TEM2の画像
機種 JEOL, JEM-2100 (HR)
加速電圧 通常200kV
分解能(粒子像) 0.23nm
電子銃 熱電子放出型 六硼化ランタンフィラメント
試料傾斜角 X:±35° Y:±30°
付属装置 エネルギー分散型X線分光器 (EDX)
STEM検出器
ボトムCCDカメラ
用途 微小領域の形態観察、構造解析、組成分析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

TEM(透過型電子顕微鏡)

TEM3の画像
機種 JEOL, JEM-2100 (HC)
加速電圧 通常200kV
分解能(粒子像) 0.31nm
電子銃 熱電子放出型 六硼化ランタンフィラメント
試料傾斜角 X:±38° Y:±30°
付属装置 ボトムCCDカメラ
用途 微小領域の形態観察、構造解析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

FE-SEM(走査型電子顕微鏡)

FE-SEM1の画像
機種 Philips (現FEI) XL-30FEG
加速電圧 最大30kV
像分解能 2.0nm (30kV)
電子銃 熱陰極電界放射型
試料傾斜角 最大+75°
付属装置 反射電子検出器
エネルギー分散型X線分光器 (EDX)
結晶方位解析装置 (TSL)
用途 試料表面の形態観察、構造解析、組成分析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

FE-SEM(走査型電子顕微鏡)

FE-SEM2の画像
機種 JEOL, JSM-7800F
加速電圧 0.01~30kV
像分解能 0.8nm (15kV), 1.2nm (1kV)
電子銃 熱陰極電界放射型
試料傾斜角 -5~+70°
付属装置 上方検出器
反射電子検出器
結晶方位解析装置 (TSL HIKARI)
用途 試料表面の形態観察、構造解析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

FE-SEM(走査型電子顕微鏡)

FE-SEM3の画像
機種 JEOL, JXA-8530F
加速電圧 1~30kV
像分解能 3.0nm (30kV)
電子銃 熱陰極電界放射型
付属装置 反射電子検出器
波長分散型X線分光器 (WDX)
エネルギー分散型X線分光器 (EDX)
結晶方位解析装置 (TSL)
用途 試料表面の形態観察、組成分析
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

複合ビーム加工観察装置

複合ビーム加工観察装置の画像
機種 JEOL, JIB-4600F
加速電圧 0.2~30kV (SEM) 1~30kV (FIB)
像分解能 1.2nm (30kV, SEM) 5.0nm (30kV, FIB)
イオン源あるいはビーム源 熱陰極電界放射型電子銃 (SEM)
Ga液体金属イオン源 (FIB)
付属装置 反射電子検出器
エネルギー分散型X線分光器 (EDX)
ガスインジェクションシステム (C, W)
ナノマニピュレータシステム (OmniProbe)
結晶方位解析装置 (TSL)
用途 試料表面の形態観察、構造解析、組成分析
ミクロン領域の試料加工
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

イオンミリング(精密イオンポリッシングシステム)

PIPSの画像
機種 Gatan PIPS Model691
使用ガス Ar
イオン加速電圧 最大6kV
照射角度 ±10°
付属装置 コールドトラップ
用途 薄片化試料及びバルク試料の研磨
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

FIB試料仕上げ加工装置

FIBの画像
機種 Fischione Model 1040 Nanomill
使用ガス Ar
イオン加速電圧 最大2kV
ビーム径 約2μm
照射角度 -10~+20°
付属装置 液体窒素冷却ステージ
用途 薄片化した試料のダメージ除去
担当者 小林
注意点 使用に際しては担当者までメール等でご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。

NMR室

NMR(核磁気共鳴装置)600MHz

NMRの画像
機種 JEOL RESONANCE製 ECA-600
マグネット 14T, ボア径 54mm
固体測定 ・2重共鳴 1mm HXMASプローブ(観測核:1H、31P~15N)
・1.3mm MASプローブ (観測核:1H、7Li、13C、45Sc、17O)
・2重共鳴 1mm F専用MASプローブ(観測核:19F、13C)
・2重共鳴 2.5mm HXMASプローブ(観測核:1H、31P~15N)
・4mm プローブ(観測核:11B~29Si、13C~35Cl)
・6mm Y専用プローブ(観測核:89Y、39K)
・8mm Low-γプローブ(観測核:29Si~25Mg)
液体測定 試料管径 5mm, 温度可変付き(室温~180℃)
用途 原子周辺の局所構造解析が有機、無機材料について可能。
結晶性の低い化合物でも測定ができ、結晶構造に依存した横軸が得られる。
担当者 大比良、安東*
注意点 装置利用を希望する際は担当者までご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
*:NMR測定の支援のため、総合支援班より派遣されている。

NMR(核磁気共鳴装置)300MHz

NMRの画像
機種 JEOL RESONANCE製 ECA-300
マグネット 7.05T, ボア半径 89mm
固体測定 ・2重共鳴 4mm HXMASプローブ(観測核:1H、13P~15N)
・高温拡散測定用GRプローブ 測定可能温度領域:室温~500℃
(観測核:1H、31P、7Li、11B、23Na、27Al、13C)
用途 原子周辺の局所構造解析が有機、無機材料について可能。
結晶性の低い化合物でも測定ができ、結晶構造に依存した横軸が得られる。
担当者 大比良、安東*
注意点 装置利用を希望する際は担当者までご連絡ください。
備考 本装置は技術部・合同計測分析班がマテリアル・開発系より管理・運用を委託されて運営しております。
*:NMR測定の支援のため、総合支援班より派遣されている。
HTML & CSS template by CSSデザインテンプレート