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東北大学 工学部・工学研究科 技術部

合同計測分析班

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極微細物質構造解析室(B01室) 管理装置

FE-TEM FE-TEM/STEM LOW-TEM
FE-SEM FE-SEM/EBSP SIMS
AFM/SPM イオンミリング装置 回転研磨装置
(ハンディラップ)
精密回転研磨装置 回転研磨装置
(ダイヤラップ)
低速精密切断器
カーボンコーター メタルコーター プラズマエッチング
親水化処理装置
イオンクリーナー 真空含浸装置 精密ディンプルグラインダー

FE-TEM(透過電子顕微鏡)

FE-TEMの画像
機種 Hitachi HF-2000
加速電圧 200 kV
分解能 0.20 nm
電子銃 冷陰極電界放出型(Cold-FEG)
プローブモード TEM
用途 局所領域における構造解析(明視野像、暗視野像、高分解能像、電子線回折)
担当者 宮崎
注意事項 使用に際しては、担当者までお問い合わせください。
備考 試料が観察用グリッド(φ3mm)に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル HF-2000操作マニュアル1, HF-2000操作マニュアル2

FE-TEM/STEM(電界放出型透過電子顕微鏡)

FE-TEM/STEMの画像
機種 JEOL JEM-2100F
加速電圧 200 kV
分解能 粒子像:0.19 nm, 格子像:0.1 nm
電子銃 ショットキー型FE電子銃
プローブモード TEM, STEM
付属装置 エネルギー分散型X線分光器(EDX)
検出元素:B~U
エネルギー分解能:133 eV
走査透過電子顕微鏡(STEM)
高精細ボトムマウントCCDカメラ
各種試料ホルダー
ベリリウム2軸傾斜
用途 局所領域における構造解析(明視野像、暗視野像、高分解能像、電子線回折)、元素分析(点、マッピング、定性、定量)
担当者 宮崎
注意事項 使用に際しては、担当者までお問い合わせください。
備考 試料が観察用グリッド(φ3mm)に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。

LOW-TEM(低加速電圧透過型電子顕微鏡)

LOW-TEMの画像
機種 Hitachi HT-7500
加速電圧 100 kV
分解能 粒子像:0.36 nm, 格子像:0.20 nm
電子銃 LaB6、W
プローブモード TEM
付属装置 ボトムマウントCCDカメラ
用途 局所領域における構造解析(明視野像、暗視野像、電子線回折)
担当者 宮崎
注意事項 使用に際しては、担当者までお問い合わせください。
備考 試料が観察用グリッド(φ3mm)に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル HT-7500操作マニュアル

FE-SEM(走査電子顕微鏡)

FE-SEMの画像
機種 JEOL JSM-6500F
加速電圧 3-30 kV
分解能 1.5 nm
電子銃 ショットキー電子銃(Thermal)
観察モード 二次電子、反射電子、凹凸像
付属装置 エネルギー分散型X線分光器(EDX)
反射電子検出器
用途 セラミックスや金属などの形態観察、元素分析(点、マッピング、定性、定量)
担当者 宮崎
注意事項 原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。なお、講習時間は、基本操作から分析・解析まで約1.5時間になります。
備考 試料が完全乾燥していること、且つ試料表面が導電状態である必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル JSM-6500F操作マニュアル

FE-SEM/EBSP(電界放出型走査電子顕微鏡)

FE-SEM/EBSPの画像
機種 JEOL JSM-7100F
加速電圧 1-30 kV
分解能 1.2nm (@30kV), 3.0nm (@1kV)
電子銃 ショットキー電子銃(Thermal)
観察モード 二次電子、反射電子、結晶方位マップ(IPF, IQ, G.B.マップ)
付属装置 エネルギー分散型X線分光器(EDX-SDD)
反射電子検出器
結晶方位解析装置(EBSD)
用途 セラミックスや金属などの形態観察、元素分析(点、マッピング、定性、定量)
担当者 宮崎
注意事項 原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。なお、講習時間は、基本操作から分析・解析まで約1.5時間になります。
備考 試料が完全乾燥していること、且つ試料表面が導電状態である必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル JSM-7100F操作マニュアル

SIMS(二次イオン質量分析装置)

SIMSの画像
機種 CAMECA IMS-7f
イオン源 O, Cs
質量分析計 二重収束型セクター磁場質量分析計
質量分解能 M/ΔM >20,000
二次イオン光学系 投影モード、走査モード
付属装置 電子銃、RAE、Storage Chamber
用途 ドーピングの濃度と拡散分布、不純物量、界面評価(不純物接合深さ、コンタミ成分の拡散)など
担当者 宮崎
注意事項 原則的に委託もしくは立会い分析になります。
備考 詳細は担当者までお問い合わせください。

AFM/SPM(走査プローブ顕微鏡)

AFM/SPMの画像
機種 SII Nanocute
測定モード AFM, FFM, DFM, SSRM, Current (Nano, Pico)
検出方法 自己検知方式、光てこ方式
分解能 X, Y:10 nm以下、Z:0.5 nm以下
用途 試料表面局所領域における形態観察
担当者 宮崎
注意事項 原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。講習時間は概ね2時間です。
備考 試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。
粗さの指標
操作マニュアル AFM-DFM操作マニュアル(自己検知モード)

イオンミリング装置

イオンミリングの画像
機種 GATAN PIPS Model 691
イオン化エネルギー 0.5-6.0 keV
ビーム照射角度 0.5-10°
ビーム径 約350μm at 5keV
ガス Ar
用途 透過型電子顕微鏡用試料(TEM)の薄膜化
研磨面の最終仕上げ
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 試料厚50μm以下でTEMメッシュに固定されている必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル PIPS691 操作マニュアルイオンミリング試料加工

回転研磨装置(ハンディラップ)

ハンディラップの画像
機種 LaboPol-5(丸本ストルアス)
回転数 50 - 500 rpm
研磨紙 #240 - #8,000
用途 顕微鏡観察用試料の薄片化または面出し
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。

精密回転研磨装置

精密回転研磨装置の画像
機種 M-Prep5(ALLIED)
回転数 最大 500 rpm
研磨紙 φ200
用途 顕微鏡観察用試料の薄片化または面出し
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。

回転研磨装置(ダイヤラップ)

ダイヤラップの画像
機種 ML-150P(マルトー)
回転数 30 - 150 rpm
研磨剤 コロイダルシリカ、ダイヤモンドスラリー
用途 顕微鏡観察用試料などの鏡面研磨
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。

低速精密切断器(回転カッター)

低速精密切断器の画像
機種 ミニトム(丸本ストルアス)
回転数 100 - 420 rpm
切断ホイール直径 100 - 127 mm
用途 材料微細構造検査用試料やセラミックス試料などの切断
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。

カーボンコーター

カーボンコーターの画像
機種 CC-40F
コーティング方法 加熱蒸着
ターゲット カーボン
膜厚 数nm - サブミクロン(圧力、ステージ位置により可変)
用途 主に電子顕微鏡観察用の帯電防止
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル カーボンコータ 使用手順

メタルコーター

メタルコーターの画像
機種 JFC-1500
コーティング方法 スパッター
ターゲット 金、白金
膜厚 数nm - サブミクロン(スパッタ圧により可変)
用途 主に電子顕微鏡観察用の帯電防止
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル メタルコータ 使用手順

プラズマエッチング親水化処理装置

プラズマエッチングの画像
機種 SEDE-MN
使用ガス 窒素、酸素
用途 試料表面の汚染除去、カーボンメッシュの親水化処理など
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 担当者までお問い合わせ下さい。
操作マニュアル プラズマエッチング親水化処理 使用手順

イオンクリーナー

イオンクリーナーの画像
機種 JIC-410 (JEOL)
放電方式 水平電極型
ターゲット カーボン
真空チャンバ 外径118mm×高さ37mm
用途 グロー放電を用いた試料上に付着した炭化水素系汚染物の除去
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。

真空含浸装置

真空含浸装置の画像
機種 Cast N
使用時圧力 7×104 Pa
用途 試料の樹脂埋め、固定
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。

精密ディンプルグラインダー

精密ディンプルグラインダーの画像
機種 Gatan Model656
試料台回転速度 10 rpm
研磨ホイール速度 0 ~ 600 rpm 連続可変
負荷 0 ~ 40g 連続可変
最終試料厚み 10μm
用途 主に電子顕微鏡観察用の試料薄片化処理
担当者 宮崎
注意事項 初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。
備考 研磨剤などの消耗品はこちらでも用意しておりますが、数量に限りがありますので使用状況によりご持参いただくことがあります。詳細は担当者までお問い合わせ下さい。
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