Home >> 極微細物質構造解析室（総合研究棟 B01室）
極微細物質構造解析室（B01室） 管理装置
◇分析機器
FT-TEM/STEM, LOW-TEM, FE-SEM/EBSP
XRD, AFM/SPM, GD-OES
◇電顕用加工装置
イオンミリング（薄膜・断面）, クロスセクションポリッシャ
回転研磨装置, 切断機
◇コーター
カーボンコーター, メタルコーター
◇その他
プラズマエッチング, 親水化処理装置, イオンクリーナー, 真空含浸装置
ディンブルグラインダー, ミクロトーム
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業績リスト
業績リスト（査読付き学術論文一覧）
| 機種 |
Hitachi HF-2000 |
| 加速電圧 |
200 kV |
| 分解能 |
0.20 nm |
| 電子銃 |
冷陰極電界放出型（Cold-FEG） |
| プローブモード |
TEM |
| 用途 |
局所領域における構造解析（明視野像、暗視野像、高分解能像、電子線回折） |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
試料が観察用グリッド（φ3mm）に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
HF-2000操作マニュアル1, HF-2000操作マニュアル2 |
| 機種 |
JEOL JEM-2100F |
| 加速電圧 |
200 kV |
| 分解能 |
粒子像：0.19 nm, 格子像：0.1 nm |
| 電子銃 |
ショットキー型FE電子銃 |
| プローブモード |
TEM, STEM |
| 付属装置 |
エネルギー分散型X線分光器（EDX）
検出元素：B～U
エネルギー分解能：133 eV
走査透過電子顕微鏡（STEM）
高精細ボトムマウントCCDカメラ
各種試料ホルダー
ベリリウム2軸傾斜
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| 用途 |
局所領域における構造解析（明視野像、暗視野像、高分解能像、電子線回折）、元素分析（点、マッピング、定性、定量） |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
試料が観察用グリッド（φ3mm）に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
Hitachi HT-7500 |
| 加速電圧 |
100 kV |
| 分解能 |
粒子像：0.36 nm, 格子像：0.20 nm |
| 電子銃 |
LaB6、W |
| プローブモード |
TEM |
| 付属装置 |
ボトムマウントCCDカメラ |
| 用途 |
局所領域における構造解析（明視野像、暗視野像、電子線回折） |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
試料が観察用グリッド（φ3mm）に固定されている、もしくは薄片化されている必要があります。試料準備については担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
HT-7500操作マニュアル |
| 機種 |
JEOL IT-800(HL) |
| 加速電圧 |
1-30 kV（運用は15kVに固定） |
| 分解能 |
0.7 nm(20kV) |
| 電子銃 |
ショットキー電子銃（Thermal） |
| 観察モード |
二次電子、反射電子、凹凸像 |
| 付属装置 |
二次電子検出器（SED)
上方電子検出器（UED)
エネルギー分散型X線分光器（EDX）
反射電子検出器
結晶方位解析装置（EBSD) |
| 用途 |
セラミックスや金属などの形態観察、元素分析（点、マッピング、定性、定量） |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。なお、講習時間は、基本操作から分析・解析まで約1.5時間になります。 |
| 備考 |
試料が完全乾燥していること、且つ試料表面が導電状態である必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
準備中 |
| 機種 |
JEOL JSM-7100F |
| 加速電圧 |
1-30 kV（運用は15kVに固定） |
| 分解能 |
1.2nm (@30kV), 3.0nm (@1kV) |
| 電子銃 |
ショットキー電子銃（Thermal） |
| 観察モード |
二次電子、反射電子、結晶方位マップ（IPF, IQ, G.B.マップ） |
| 付属装置 |
エネルギー分散型X線分光器（EDX-SDD）
反射電子検出器
結晶方位解析装置（EBSD） |
| 用途 |
セラミックスや金属などの形態観察、元素分析（点、マッピング、定性、定量） |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。なお、講習時間は、基本操作から分析・解析まで約1.5時間になります。 |
| 備考 |
試料が完全乾燥していること、且つ試料表面が導電状態である必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
JSM-7100F操作マニュアル, EBSD操作マニュアル（初級者用, 中級者用） |
| 機種 |
Rigaku MiniFlex600/600-C |
| 線源 |
CuKα 600 W X線管 |
| 検出器 |
1次元検出器 |
| ゴニオメーター |
半径 150 mm |
| 用途 |
Ｘ線回折を用いた結晶構造測定 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
現在調整中 |
| 機種 |
SII Nanocute |
| 測定モード |
AFM,DFM,Current (Nano, Pico) |
| 検出方法 |
自己検知方式、光てこ方式 |
| 分解能 |
X, Y：10 nm以下、Z：0.5 nm以下 |
| 用途 |
試料表面局所領域における形態観察 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
原則的に各自操作になります。初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けて下さい。講習時間は概ね2時間です。 |
| 備考 |
試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。
粗さの指標 |
| 操作マニュアル |
AFM-DFM操作マニュアル（自己検知モード） |
| 機種 |
HORIBA JOBIN YVON, GD-Profiler 2 |
| 発光部 |
高周波出力：0-300W、パルス制御：1〜100Hz、ガス圧力：0〜1000Pa |
| 検出部 |
光電子増倍管 |
| 分光部 |
ポリクロメータ、モノクロメータ |
| アノード径 |
φ4mm（標準） |
| 対象元素 |
H～ |
| 用途 |
高周波パルスグロー放電により試料をスパッタエッチングし、試料から放出されたスパッタ粒子をグロー放電中で励起発光させ、これを分光することによって、深さ方向での元素の定性・定量分析を行う。 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
供試体全体が導電性、かつ分析対象面が平滑平坦であることが望ましい。 |
| 機種 |
GATAN PIPS Model 691 |
| イオン化エネルギー |
0.5-6.0 keV |
| ビーム照射角度 |
0.5-10° |
| ビーム径 |
約350μm at 5keV |
| ガス |
Ar |
| 用途 |
透過型電子顕微鏡用試料（TEM）の薄膜化
研磨面の最終仕上げ |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
試料厚50μm以下でTEMメッシュに固定されている必要があります。不明な場合は担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
PIPS691 操作マニュアル、イオンミリング試料加工 |
| 機種 |
JEOL IB-19530CP |
| イオン化電圧 |
2-8kV |
| 加工モード |
試料回転モード
間欠加工モード
仕上げ加工モード
広域断面ミリングモード |
| ガス |
Ar |
| 用途 |
SEM観察用試料の表面・断面仕上げ |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
|
| 操作マニュアル |
イオンミリング（CP）操作マニュアル |
| 機種 |
LaboPol-5（丸本ストルアス） |
| 回転数 |
50 - 500 rpm |
| 研磨紙 |
#240 - #8,000 |
| 用途 |
顕微鏡観察用試料の薄片化または面出し |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
MetaServ250（BUEHLER） |
| 回転数 |
最大 500 rpm |
| 研磨紙 |
φ200 |
| 用途 |
顕微鏡観察用試料の薄片化または面出し |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
ML-150P（マルトー） |
| 回転数 |
30 - 150 rpm |
| 研磨剤 |
コロイダルシリカ、ダイヤモンドスラリー |
| 用途 |
顕微鏡観察用試料などの鏡面研磨 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
ミニトム（丸本ストルアス） |
| 回転数 |
100 - 420 rpm |
| 切断ホイール直径 |
100 - 127 mm |
| 用途 |
材料微細構造検査用試料やセラミックス試料などの切断 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
CC-40F |
| コーティング方法 |
加熱蒸着 |
| ターゲット |
カーボン |
| 膜厚 |
数nm - サブミクロン（圧力、ステージ位置により可変） |
| 用途 |
主に電子顕微鏡観察用の帯電防止 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
カーボンコータ 使用手順 |
| 機種 |
JFC-1500 |
| コーティング方法 |
スパッター |
| ターゲット |
金、白金 |
| 膜厚 |
数nm - サブミクロン（スパッタ圧により可変） |
| 用途 |
主に電子顕微鏡観察用の帯電防止 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
メタルコータ 使用手順 |
| 機種 |
SEDE-MN |
| 使用ガス |
窒素、酸素 |
| 用途 |
試料表面の汚染除去、カーボンメッシュの親水化処理など |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 操作マニュアル |
プラズマエッチング親水化処理 使用手順 |
| 機種 |
JIC-410 (JEOL) |
| 放電方式 |
水平電極型 |
| ターゲット |
カーボン |
| 真空チャンバ |
外径118mm×高さ37mm |
| 用途 |
グロー放電を用いた試料上に付着した炭化水素系汚染物の除去 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
Cast N |
| 使用時圧力 |
７×104 Pa |
| 用途 |
試料の樹脂埋め、固定 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
試料の大きさ、形状に制限があります。担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
Gatan Model656 |
| 試料台回転速度 |
10 rpm |
| 研磨ホイール速度 |
0 ～ 600 rpm 連続可変 |
| 負荷 |
0 ～ 40g 連続可変 |
| 最終試料厚み |
10μm |
| 用途 |
主に電子顕微鏡観察用の試料薄片化処理 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
研磨剤などの消耗品はこちらでも用意しておりますが、数量に限りがありますので使用状況によりご持参いただくことがあります。詳細は担当者までお問い合わせ下さい。 |
| 機種 |
Leica VT1000 S |
| 仕様 |
振動型ミクロトーム |
| 試料サイズ |
最大70 x 40 x 15 mm |
| 試料上下ストローク |
最大15㎜ |
| セクショニング範囲 |
最大40㎜ |
| 用途 |
顕微鏡観察用サンプルの薄片切断 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
使用に際しては、担当者までお問い合わせください。 |
| 備考 |
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| 機種 |
メイハン MUS-4SA |
| 回転数 |
400 - 3000 rpm |
| 切断ホイール直径 |
100 mm |
| 用途 |
材料微細構造検査用試料やセラミックス試料などの切断 |
| 担当者 |
宮崎 |
| 注意事項 |
初めて利用する場合は、必ず担当者から操作講習を受けてください。 |
| 備考 |
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